没有谁考虑过湿法光刻机，一来是因为湿法光刻机是一个很冷门的技术路线，麻省理工学院林肯实验室的斯威特克斯和罗斯柴尔德两位研究员做过类似的研究，他们尝试过各种液体，都不太合适。”

周新打断道：“要用水，水的折射率是最合适的，只有水可以。”

林本坚鼓掌：“不愧是Newman，在一切事物上都是如此敏锐，没错我们也发现水才是最合适的。

因为水是半导体生产中要用到的大量液体，不存在接受度的问题。

而且我们在做预研究的时候测过水的折射率，1.46，这个折射率很合适，现在193纳米的波长通过水折射之后可以变成132纳米，直接跳过了157纳米，避开了这个困难，这真是上天的奇妙安排。”

为什么说157纳米是困难的，因为波长在193纳米的时候，光刻机镜头的孔径已经做到了0.93，这一技术的极限就是90纳米制程，要想更进一步，光源必须要更短的波长。

而业内找到的波长为157纳米的光，存在很多问题，穿透率低，只有很少可用的介质，比如说单结晶的二氟化钙，这种材料去做镜头的问题在于很难制造20-30公分大小的完美结晶。

还有像空气中的氧气会吸收157纳米的光，光经过的整个路径必须只有氮气，造成很多不便，会增加制造的成本，而且一旦出现意外漏出太多氮气会有致命危险。

157纳米的光存在非常多非常多要被克服的问题，林本坚则发现通过湿法可以不用换光源，作为基督徒的他愈发觉得这是上天的安排。

也正是因为他认为这是上天的安排，才想要赌上一把。

当然听到周新几乎是下意识说出水，林本坚内心感慨天才不愧是天才，有着野兽一般的直觉。

周新说：“我认为没有问题，我会支持你的，这一技术路线你有没有和外界透露过？”

林本坚摇头：“目前还没有，我不确定这一技术路线能行，另外里面一些关键的技术专利我们要进行注册，注册之后在做尝试的时候去争取蔡司支持可能需要发表一些文章。”

周新问：“我们能不能尽可能低调，无论是蔡司还是其他厂商，我们可不可以通过钱来解决？

说白了我们开价，他们提供服务，比如说他们配合我们制造符合我们要求的元器件，我们开出更高的价格，新芯别的都缺，唯独不缺钱。”

台积电之所以会和ASML联合，是因为飞利浦是台积电的股东之一，ASML最早就是飞利浦的一个部门。

林本坚说：“我们可以说服蔡司，蔡司只认钱，只要我们开的价码足够高，我们想要什么效果，他们就能做什么效果出来。”

周新心想，还是这种只认钱的厂商好，因为我穷的只剩下钱了。

“好，因为我们在制程工艺上落后其他尼康佳能，我们要实现突破，必须尽可能低调。

我们肯定是没办法让他们不知道，因为涉及到这么多合作伙伴，但是在有阶段性成果之前，不对外做任何宣传。”

周新定下基调，林本坚点头：“只是零星消息的透露，他们是不可能改变技术路线的。

要知道像尼康已经在干式光刻机上投入了7亿美元的研发费用，他们要是改技术路线，等于7亿美元打水漂了，股东不会放过尼康的研发部门和高管的。

即便尼康知道湿法光刻机是未来，他们也会硬着头皮往干式光刻机的路线上走下去，直到失败。”

这就是霓虹企业的特性，包括后来的东电，非要真正发生核泄漏才承认，属于是不撞南墙不回头。

周新说：“还有ASML。”

林本坚说：“他们现在和台积电深度合作，从体量上来说比我们大一些，但是大的有限。

他们技术上有优势，我相信我们在湿法光刻机上突破之后我们能超越他们。

ASML也选择的是干式光刻机，或者说所有光刻机公司采取的技术路线都是干式光刻机，没有谁选择湿法光刻机。

157纳米波长的光源虽然有着各种各样的问题，但是这毕竟是延续过去一直以来的技术路线，和湿法光刻机这样换架构还是有所不同。

虽然从预研究和我个人的直觉来说，我认为湿法光刻机的技术困难都是能克服的。

但是现实情况如何，我也不知道。

反而你同意我的观点，加上一语点到水作为介质，让我有信心得多。”

从某种意义上来说，相当于与世界为敌了，原时空里林本坚下定决心要搞湿法光刻机之后，友商尼康甚至找到台积电的总裁试图阻止他们。

当然周新会坚持走这一技术路线，开天眼的好处就在于此，你永远不会做出错误的战略规划。

但是也有问题，那就是走了这一技术路线，短期内无法从尼康那里买到技术了。

周新说：“我的直觉告诉我，湿法光刻机是一定可行的，林叔，你大概预计一下我们现在开始把全部资源投入到湿法这一技术路线的研发中。

如果缺资金我另外再以个人名义融资，需要多久能完成样品的研发？”

老实说ASML和台积电的深度合作，作为两家企业背后的大股东，飞利浦起到的作用至关重要。

现在没了林本坚，光刻机技术依然会发展，只是技术发展的路线不一样了。

(本章完)